Technical Description
玻璃蚀刻液（GE-K1）是圣普化学面向玻璃基板场景开发的蚀刻/显影产品——用于精密图形化加工的蚀刻/显影化学品。技术性能对标RENA 碱性蚀刻，提供国产化替代方案。核心卖点：TGV 成孔蚀刻，飞秒激光改性 + 热碱蚀刻路线。
主要适用材质/对象：玻璃基板。
服务于半导体制造与先进封装产线的良率与洁净度需求。
Introduction
玻璃蚀刻液 (GE-K1) is developed by SEMPURION for 玻璃基板 as a 蚀刻/显影 product.Key advantage: TGV 成孔蚀刻，飞秒激光改性 + 热碱蚀刻路线. Benchmarked against RENA 碱性蚀刻 as a domestic alternative. Key features: 飞秒激光改性 + 热碱（110°C）选择性蚀刻路线——对激光改性区蚀刻速率远高于本体玻璃（选择性 >50:1），本体几乎不蚀，无需侧壁保护，不含剧毒含氟酸（该路线明确不采用），热碱蚀刻安全可控，锥角低（taper <1°，对标 RENA），满足低钠要求. Typical process: 有效碱约 40%），110±5°C 浸泡 10-60min（蚀刻速率 0.1-0.5μm/min，取决于激光改性损伤度，需按客户激光参数实测标定），取出热水冲洗 → 稀有机酸中和 1-2min → DI 水冲洗 ×3 → 衔接 Post-TGV 清洗，禁用铝/玻璃/陶瓷容器.
Quick Specs
Features
飞秒激光改性 + 热碱（110°C）选择性蚀刻路线——对激光改性区蚀刻速率远高于本体玻璃（选择性 >50:1），本体几乎不蚀，无需侧壁保护，不含剧毒含氟酸（该路线明确不采用），热碱蚀刻安全可控，锥角低（taper <1°，对标 RENA），满足低钠要求
Process & Usage
有效碱约 40%），110±5°C 浸泡 10-60min（蚀刻速率 0.1-0.5μm/min，取决于激光改性损伤度，需按客户激光参数实测标定），取出热水冲洗 → 稀有机酸中和 1-2min → DI 水冲洗 ×3 → 衔接 Post-TGV 清洗，禁用铝/玻璃/陶瓷容器
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