Technical Description
ITO 蚀刻液（ITO-E1）是圣普化学面向ITO 玻璃场景开发的蚀刻/剪薄产品——用于精密图形化加工的蚀刻/显影化学品。技术性能对标帕卡 Parker / 芝普 ITO 蚀刻液，提供国产化替代方案。核心卖点：ITO 图形化蚀刻，面板/触控。
主要适用材质/对象：ITO 玻璃。
服务于显示面板/模组制程的清洗、蚀刻与返修工序。
Introduction
ITO 蚀刻液 (ITO-E1) is developed by SEMPURION for ITO 玻璃 as a 蚀刻/剪薄 product.Key advantage: ITO 图形化蚀刻，面板/触控. Benchmarked against 帕卡 Parker / 芝普 ITO 蚀刻液 as a domestic alternative. Key features: 有机酸系主推——厂商，专利与学术资料多方印证的行业主流路线：无氯，无金属离子污染，对玻璃 / 光阻 / 黑矩阵选择性出色（ITO 对光阻选择比 >10:1），环保安全，已大规模替代传统无机强酸蚀刻路线，工作浓度落在行业商品规格常用窗口，客户端无需调整即可导入，另备经典无机酸快速方案，蚀刻速率高 2~3 倍，供快速产线选用，可按客户 ITO 晶型提供速率曲线标定服务（非晶 / 多晶蚀刻速率差异大，标定后方可稳定量产）. Typical process: 方案 A：40~45°C 蚀刻速率 30~60nm/min（建议按 30~50nm/min 验收，方案 B：30~40°C 快蚀 30~90s，蚀刻后须充分漂洗去除残余离子，玻璃无发蒙（30min 失重 <0.01%），含铟 / 锡废液按危废管理.
Quick Specs
Features
有机酸系主推——厂商，专利与学术资料多方印证的行业主流路线：无氯，无金属离子污染，对玻璃 / 光阻 / 黑矩阵选择性出色（ITO 对光阻选择比 >10:1），环保安全，已大规模替代传统无机强酸蚀刻路线，工作浓度落在行业商品规格常用窗口，客户端无需调整即可导入，另备经典无机酸快速方案，蚀刻速率高 2~3 倍，供快速产线选用，可按客户 ITO 晶型提供速率曲线标定服务（非晶 / 多晶蚀刻速率差异大，标定后方可稳定量产）
Process & Usage
方案 A：40~45°C 蚀刻速率 30~60nm/min（建议按 30~50nm/min 验收，方案 B：30~40°C 快蚀 30~90s，蚀刻后须充分漂洗去除残余离子，玻璃无发蒙（30min 失重 <0.01%），含铟 / 锡废液按危废管理
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